必知：不同基體電子元件的鍍金方法

1.銅、黃銅鍍金

以銅、黃銅為（wéi）基體的電子元件鍍金是比其他金屬基體簡單。鍍金所需的鍍金液中含中等濃度金，隻有金（jīn）的濃度合適（shì）才（cái）能得到導電好外觀美（měi）麗的鍍層。

具體（tǐ）步驟如下：首先使用汽油（yóu）或者四氯化碳等有機溶劑吸去（qù）電子元件上（shàng）的油性汙（wū）漬，如果單純（chún）衝洗或浸泡去油漬效果不好;其次完成後利用（yòng）超聲波（bō）化學除油，再進行熱水、冷水、酸洗(硫酸、硝酸、水的混合液)、浸泡碳酸鈉水（shuǐ）溶液。

鍍金所用的鍍金液一般成分是氰化金鉀、碳酸鉀等，鍍金完成後需要在 70 ～ 80℃的純淨水中超聲波攪動清洗(純淨水的（de）電導（dǎo）率應≤ 10us/cm)，清洗時間不少（shǎo）於 10 分鍾，最後幹（gàn）燥 。

2 .磷青銅鍍金

生活中所用的插線板上的插頭、插座一（yī）般都是磷青銅元件，之前（qián）這種基體金屬進行鍍（dù）金需要預（yù）鍍銅、再鍍金，比（bǐ）銅、黃銅基體的電子元件鍍金工（gōng）序複雜，鍍金（jīn）層質量（liàng）也不易得到保證。

經過多年研究試驗，其鍍金工序簡單且金鍍層質量可靠（kào）很多，先用汽油除去電子元件上的油漬汙漬，再超（chāo）聲波化（huà）學除油，然後進行熱水、冷水（shuǐ）、鹽酸酸洗，再用含氰化金鉀、碳酸鉀的（de）鍍金液進行鍍金。

3 .矽錳青銅鍍金（jīn）

以矽（guī）錳青銅為基體金屬（shǔ）的電子元件進行鍍金，所需工序跟上述金屬基體無太大差別，隻是浸泡溶液為氫氟酸，氫氟酸可以去除酸洗後產生的矽化合物，這種（zhǒng）矽（guī）化合物是黑色的，附著在元件表麵，影響電鍍金的（de）鍍層結合力。

4 .鎳及鎳合金（jīn）鍍金

一些微小（xiǎo）的電子（zǐ）元件如電子管等一般（bān）是鎳及（jí）鎳合金，如果想要得到優異的導電性能就需（xū）要進行鍍金。鍍金工序比較簡單，基本同銅、黃銅金屬基體的電子元件。鎳及鎳合金鍍金（jīn）電鍍（dù）前使用鹽酸酸洗獲得的金鍍（dù）層結合力較好。

2 電鍍金和化學鍍（dù）金

1 .電鍍金

雷達上的金鍍層、各種引線鍵合的鍵合麵等都是（shì）電鍍金的應用。電鍍金的鍍金陽（yáng）極一般是鉑金鈦網，陰極是矽（guī）片，當陽極、陰極連上電源，氰化金鉀鍍液就會產生電流進而形成（chéng）電場，陽極釋放電子，陰極接收電子，陰極附近的絡合態金離（lí）子和電（diàn）子結（jié）合以（yǐ）金原（yuán）子的形（xíng）式沉（chén）積在陰極表麵，逐漸在矽片表麵形成一層均勻、致密（mì）的金（jīn），這就是（shì）電鍍金的原理。

電鍍金使用的電鍍液一般有氰（qíng）化物和非氰化物兩種（zhǒng），但是氰化物有劇（jù）毒，使用不方麵且不易不管理，所以現（xiàn）在多使用微氰化物體係，毒（dú）性小且耐磨。電（diàn）鍍金的設備包括水平（píng）噴（pēn）流式杯鍍和垂直掛鍍兩（liǎng）種。

杯鍍式的電鍍比掛鍍式的（de）電鍍容易產生氣泡，氣泡（pào）會影響鍍層的均勻性。電鍍工藝（yì）對鍍層的均勻度、粗糙（cāo）度、硬（yìng）度等都會產生重要的影響。電鍍工藝中比較重要（yào）的參數有電流密度、溫度、pH、金質量濃度、電鍍時間等。電流密度增（zēng）加，金沉積速（sù）度加快，鍍層較為粗糙;鍍液溫度高於 80℃會導致鍍層硬度減弱;pH 高於 7 會導致鍍層（céng）粗糙;金濃度也會影響金的沉積速度。隻要（yào）控製好電鍍金的各種參數就可以獲得性能優良的鍍層，滿足電子（zǐ）元件製造業的需求 。

2. 化學鍍金（jīn）

化學鍍金可以分為置換型、還原型，這是依據鍍金液中是否（fǒu）含（hán）有還原劑來分（fèn）型的。置換鍍金的原（yuán）理是利用金和基體金屬的電位差，電位（wèi）差的產生就（jiù）會使金由鍍液（yè）沉積到基體表麵，基（jī）體也會溶解，基體表麵（miàn）金屬全部溶解（jiě）則反映（yìng）停止。

還原型鍍金的原理目前並沒有很明確，有些學者認為是還（hái）原型鍍金同時存在置換型鍍金，有些學者認為發生（shēng）還（hái）原（yuán）型鍍金需（xū）要有具有催化能（néng）力的基體金屬。

化學鍍金的鍍金液由金鹽、配位劑、還原（yuán）劑、穩定劑組成，有的可能還有表麵改（gǎi）善劑（jì）、表麵活性劑。化學鍍金（jīn）的鍍液也（yě）主要是以亞硫酸鹽、檸檬酸（suān）鹽等體係的無氰鍍（dù）液，無氰工藝的發展也越來越成（chéng）熟（shú）。

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