請問真空電鍍加工的方法是什麽？

 真空電鍍加工是真（zhēn）空應用中的一個大分支，在光學、電子學、理化儀器、包裝、機械以及表（biǎo）麵處理技術等眾多方麵（miàn）有著十（shí）分廣泛的應用。為（wéi）了讓大家更詳細的了解真空鍍膜的應用，今天小（xiǎo）編詳細為大家介紹真空電鍍加工的主要幾種方法，希望對大家有用（yòng）!

真（zhēn）空電鍍應用，簡單地理解就是在真空環境下（xià），利用（yòng）蒸鍍、濺射以及隨後凝結的辦法，在金（jīn）屬、玻璃、陶瓷、半導體以及塑料件等物體上（shàng）鍍（dù）上金屬薄膜或者（zhě）是覆蓋層。相對於傳統電（diàn）鍍方式（shì），真空電鍍應用屬於一種幹式（shì）電鍍，它的主要方法包括以下幾種：

真空（kōng）蒸鍍（dù）。其原理（lǐ）是在真空條件下，用蒸發器加熱帶蒸發物質，使其氣化或升華，蒸發離子流直接射向基片，並在（zài）基片上（shàng）沉積析出固態薄膜的技術。

濺射鍍膜。濺射鍍膜是（shì）真空條件下，在陰極接（jiē）上2000V高壓電，激發輝光放（fàng）電，帶正電（diàn）的（de）氬離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原（yuán）子通過（guò）惰性氣氛沉積到基片（piàn）上形成膜層。

離子鍍膜。即幹式螺杆真空泵（bèng）廠家已經介紹過的真空離子鍍膜。它是在上麵兩種真空（kōng）鍍膜技術基（jī）礎（chǔ）上發展而來的，因此兼有兩者的工藝特點。在真空條件下，利用（yòng）氣體放電使工作氣體或被蒸（zhēng）發物質(膜材)部分（fèn）離化，並在離子轟擊下，將蒸發物或其反（fǎn）應物（wù）沉（chén）積在基片表麵。在（zài）膜的形成過程中（zhōng），基片始終受到（dào）高（gāo）能（néng）粒子的轟擊，十（shí）分清（qīng）潔。

真空（kōng）卷繞鍍膜。真空卷繞鍍膜是一種利用物理氣相沉積的方法在柔性基體上連續鍍膜的技（jì）術，以實現柔性基體的一些功能性（xìng）、裝飾（shì）性屬（shǔ）性。

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